P5000平台是AMAT多腔体设备平台，可以安装4个腔体，刻蚀腔体有MarkⅡ、MxP、MxP+、Super-E等，可用于氧化硅、氮化硅、多晶硅、硅及金属材料的刻蚀。CVD腔体可用于氧化硅、氮化硅、金属钨等材料的化学气相沉积。P5000平台设备占地面积小、空间利用率高，适用于规模化生产。同时，设备配备强大的射频系统及气路系统，可实现多种工艺的兼容开发。P5000系列设备可选配静电吸附，可根据不同的工艺要求选择适用的配置；设备市场保有量大，备件渠道完善。